Título - Deposição e caracterização de filmes nanométricos de cobre e zircônio com baixo grau de cristalinidade
Comissão Examinadora - Titulares
Prof. Dr. Jefferson Bettini (Presidente) - FT/Unicamp
Prof. Dr. João Batista Souza Junior - CNPEM
Profa. Dra. Luísa Andréia Gachet - FT/Unicamp
Suplentes
Prof. Dr. Murilo Santhiago - CNPEM
Prof. Dr. Renato Sousa Lima - CNPEM
Local - Sala de Defesa (Prédio da Pós-Graduação da FT) | https://stream.meet.google.com/stream/e4dde451-77f9-473f-8dc1-8c8595515aec
Resumo:
Materiais amorfos têm propriedades particulares que podem ser atribuídas à sua estrutura com ordenamento atômico de curto e médio alcance. Essas propriedades, como, por exemplo, resistência à delaminação e à fadiga, são maiores quando comparadas aos seus correspondentes cristalinos. Além de sólidos maciços (forma bulk), materiais com baixo grau de cristalinidade atômico podem ser obtidos na forma de filmes nanométricos, os quais podem ser depositados sobre a superfície de materiais. As propriedades desses materiais, que dependem também da composição desses filmes, viabilizam suas aplicações em áreas como biomedicina, sensores, recobrimento de grades de microscopia eletrônica de transmissão. No entanto, o entendimento do ordenamento desses materiais é necessário para aprimorar as aplicações. Para tanto, a função de distribuição de pares permite quantificar e esclarecer os ordenamentos de curto e médio alcance. A deposição de filmes nanométricos com baixo grau de cristalinidade é comumente realizada pela técnica de deposição física de pulverização catódica (conhecida por sputtering), por ser uma técnica que admite diferentes elementos e garante boa cobertura do substrato. Neste trabalho, filmes finos metálicos de cobre e zircônio com baixo grau de cristalinidade foram depositados por pulverização catódica, cujas composições variaram de 0 a 100 % de cada metal. As amostras foram caracterizadas por diferentes técnicas relacionadas à microscopia eletrônica de transmissão e varredura e microscopia de força atômica. A composição dos filmes foi analisada por técnicas espectroscópicas de perda de energia de elétrons e dispersiva em energia, além da obtenção dos perfis de profundidade por espectroscopia de fotoelétrons de raios X para entender sobre a formação da camada de passivação nos filmes. Foram avaliadas as morfologias das amostras quanto à sua rugosidade e homogeneidade. O grau de ordenamento dos filmes foi estudado por função de distribuição de pares obtida através dos padrões de difração de elétrons. Foram avaliados como a taxa de deposição e espessura dos filmes podem interferir no grau de ordenamento. O intervalo de composições entre 22,1 e 52,4 de porcentagem atômica de Zr apresentou o menor grau de cristalinidade. Taxas de deposição maiores favorecem a formação de aglomerados e nanopartículas e diferentes espessuras levam a diferentes porcentagens de oxidação, sugerindo a formação de uma camada de passivação.